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| 发布日期：2013-04-08 21:28 作者：lei yan 字号: 大 中 小 浏览次数：：586 次 |
离子蚀刻装置
大型离子蚀刻装置, 是将刻蚀基底匀速扫描条形离子束来实现大面积刻蚀。装置的主体由离子源、三维运动工作台、离子束流探测器、实时刻蚀监测和包含方型真空室在内的真空系统等构成。
离子蚀刻工作台: 内部布有冷却水槽的L 型的立式工作台置于XY工作平台上, 工作台可相对于离子束有 15度倾角, 使刻蚀基底具有两种扫描模式: 一是基底平行于离子源( 即垂直于离子束) ; 二是基底倾斜于离子源。
基底倾斜会使刻蚀表面到离子源的距离沿纵向呈线性变化, 导致受离子束轰击出的溅射额也会有相应变化, 影响刻蚀的均匀性。工作台的扫描主运动由设置在真空室外面的伺服电机, 经1：32 涡轮减速器细化步距, 利用两对1：1 的螺旋伞齿轮传动轴, 穿过磁流体密封轴承, 将运动传给滚珠丝杠-螺母副, 带动工作台往复运动。运动副( 导轨与丝杆) 均选用滚动摩擦, 并涂有二硫化钼润滑剂, 防止因真空环境下的频繁运动而产生爬行或咬死现象。
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